2021-09-22 16:07发布
无氧环境是严格厌氧的产甲烷菌生长繁殖的最基本条件之一。 产甲烷菌不像好氧菌那样具有过氧化氢酶,因而对氧和氧化剂非常敏感。水中的含氧浓度可以用氧化还原电位来间接表示。
在厌氧消化过程中,非产甲烷阶段可以在兼氧条件下进行,氧化还原电位为-100mV ~+100mV,而在产甲烷阶段的氧化还原电位临界值为- 200mV,中温消化或常温消化的氧化还原电位必须控制在-350mV ~ -300mV,高温消化的氧化还原电位必须控制在-600mV ~-560mV。
混合液中的氧含量是影响厌氧反应器中氧化还原电位的重要因素,但不是唯- -因素, 挥发性有机酸浓度的高低、pH值的升降及铵离子浓度的增减等因素都会引起混合液氧化还原电位的变化。如pH值低,相应的氧化还原电位就高; pH高;相应的氧化还原电位就低。
最多设置5个标签!
无氧环境是严格厌氧的产甲烷菌生长繁殖的最基本条件之一。 产甲烷菌不像好氧菌那样具有过氧化氢酶,因而对氧和氧化剂非常敏感。水中的含氧浓度可以用氧化还原电位来间接表示。
在厌氧消化过程中,非产甲烷阶段可以在兼氧条件下进行,氧化还原电位为-100mV ~+100mV,而在产甲烷阶段的氧化还原电位临界值为- 200mV,中温消化或常温消化的氧化还原电位必须控制在-350mV ~ -300mV,高温消化的氧化还原电位必须控制在-600mV ~-560mV。
混合液中的氧含量是影响厌氧反应器中氧化还原电位的重要因素,但不是唯- -因素, 挥发性有机酸浓度的高低、pH值的升降及铵离子浓度的增减等因素都会引起混合液氧化还原电位的变化。如pH值低,相应的氧化还原电位就高; pH高;相应的氧化还原电位就低。
一周热门 更多>